阿斯麥CEO：銷往中國光刻機落后尖端技術十年

阿斯麥CEO克里斯托弗·富凱在接受荷蘭媒體NRC采訪時說得毫不含糊——＂通過禁止出口EUV，中國將落后西方10到15年＂。這話放在2024年底說出來，帶著一股居高臨下的味道。

可到了2026年4月，事情遠比一句話復雜得多。封鎖的刀鋒已經從EUV延伸到了DUV，從＂不賣新設備＂升級到了＂不讓你用舊設備＂，圍繞光刻機的這場暗戰，正進入一個前所未有的殘酷階段。

先把來龍去脈捋清楚。在《瓦森納協定》框架下，阿斯麥從未向中國交付過EUV光刻機。這條線卡得很早也很死，哪怕中芯國際據傳曾下過一臺EUV的訂單，也沒能拿到手。

阿斯麥持續向中國出口的是先進DUV光刻設備，比如Twinscan NXT:2000i，中芯國際正是靠著這類設備，用多重曝光的辦法，硬是在7納米制程上殺出了一條路。但富凱很清楚，這條路走不遠——成本太高、良率不夠，根本不是跟EUV競爭的長期方案。

富凱說中國＂落后10到15年＂，依據是什么？阿斯麥及其合作伙伴花了超過20年時間，才從基礎研究走到成熟的EUV商用設備。

德國蔡司的超精密光學系統、美國的高功率激光光源、荷蘭本土積累的系統集成能力，這套生態不是砸錢就能復刻的。EUV光源需要產生13.5納米波長的極紫外光，整套系統研發投入累計超過100億歐元，這道技術護城河的深度，確實讓任何追趕者望而生畏。

但2026年4月的局勢，已經不只是＂追不追得上EUV＂的問題了。4月2日，美國兩黨議員正式提出《硬件技術控制多邊協調法案》（MATCH法案），核心就是把管制范圍從EUV擴展到全系列浸沒式DUV光刻機。

這意味著連中國目前賴以維持成熟制程產能的主力設備，都可能被徹底切斷供應。更要命的是，這份法案的打擊面不止于新設備。

MATCH法案最狠的一條，是禁止全球企業對中國已售設備提供安裝、維修、保養、備件、軟件升級、遠程校準和技術培訓。

光刻機是人類造出來的最精密的工業裝備之一，每一臺都價值數億美元，它絕不是買回來放在那兒就能一直跑的。缺了原廠維護，精度下滑、良率下降、產能衰退是必然趨勢。這招叫＂釜底抽薪＂，比不賣設備更陰。

法案還精準點名了中芯國際、華為海思、長江存儲、長鑫存儲和華虹集團五家中國半導體龍頭，要求對這些企業及其關聯公司實施全面封鎖。更夸張的是，法案強制要求荷蘭、日本、韓國在150天內與美國管制標準完全對齊，否則將啟動＂外國直接產品規則＂進行長臂管轄。這已經不是建議了，這是強按盟友的頭。

4月22日，美國眾議院外交事務委員會以兩黨壓倒性支持票通過了這套法案，這說明在對華科技封鎖這件事上，民主黨和共和黨完全站到了一起。而且有意思的是，特朗普計劃5月中旬訪華，國會在這個節骨眼上猛推法案，多少有點綁住總統手腳、防止＂對華松口＂的意思。封鎖的政治意志，比很多人想象的要堅硬得多。

從阿斯麥的財務數據就能看出封鎖的現實沖擊。中國在2025年貢獻了阿斯麥總銷售額的33%，是其全球最大單一市場，但管理層預計這一比例在2026年將降至約20%。而剛出爐的2026年一季度報告顯示，中國在系統銷售中的占比已經掉到了19%，這個下滑速度比預期來得更快。阿斯麥嘴上說影響可控，但數字不會說謊。

不過阿斯麥自己的處境也挺擰巴的。有批評者指出，出口管制可能適得其反，反而加速中國的自主替代進程。阿斯麥其實心里明白這個道理——它更愿意繼續給中國客戶的設備提供維護服務，因為一旦完全撤出，中方可能被迫接管設備維護，由此產生的逆向工程和技術泄露風險才是阿斯麥最擔心的。它寧可賺著服務費看住自己的技術秘密，也不想把這塊業務拱手讓出去。

為了應對限制，阿斯麥甚至計劃在2026年第四季度推出一款專為中國市場設計的新型浸沒式DUV設備NXT:1965i，由1980i系列降規而來，既符合出口管制，又能滿足中國存儲芯片廠商的需求。你看，一邊是美國國會想把對華技術大門焊死，一邊是阿斯麥自己在那兒想方設法從門縫里遞東西進來。商業利益和政治意志之間的撕扯，在這家公司身上展現得淋漓盡致。

那中國這邊呢？面對越來越緊的絞索，自主研發的動靜也越來越大。2025年底，路透社報道稱中國科研團隊在深圳一間高度保密的實驗室里組裝完成了首臺EUV光刻機原型，已經成功產生極紫外光。雖然這臺原型機體積龐大，也遠未能制造出可用芯片，但它的出現本身就是對＂10年差距＂論的一次正面回應。中方的目標是2028年實現原型芯片試產，更現實的量產預期則可能要到2030年左右。

當然，保持清醒很重要。外界評估顯示，中國原型機在高精度光學系統上仍存在明顯短板，尚無法將極紫外光精準投射到晶圓上完成光刻成像。而EUV光刻機包含超過10萬個零部件，涉及全球5000多家供應商的協同，這種系統集成的復雜度是實驗室突破遠遠無法覆蓋的。從＂能亮＂到＂能用＂，中間隔著的不只是時間，還有無數個子系統的工程化攻關。

但另一組數據同樣值得關注。2026年前兩個月，中國集成電路出口總額高達433億美元，同比暴漲72.6%。這說明在成熟制程領域，中國芯片產業不僅沒有被封鎖打垮，反而在全球供應鏈中越扎越深。中芯國際、華虹等企業的12英寸產線大規模投產，配合新能源汽車、物聯網、智能制造等產業的全球需求，中國的成熟制程芯片正在成為全球工業體系里不可或缺的一環。

上海微電子的DUV光刻機已在28納米制程上穩定量產，并逐步向14納米乃至7納米工藝驗證過渡。這條路雖然不夠＂性感＂，不像EUV那樣代表尖端，但它構成了中國芯片產業的底盤。先穩住底盤再往上攻，這是被逼出來的務實策略，也確實在產生效果。

我的判斷是，西方的封鎖已經進入＂第二階段＂——從限制增量轉向削減存量。MATCH法案的核心邏輯就是：設備壞一臺少一臺，零件用完了沒處補，產能自然慢慢枯竭。這是一個跟時間賽跑的游戲，美方賭的是在中國實現全面自主替代之前，先把現有產能拖到半廢狀態，從而拉大技術差距。

而中國賭的則是另一條時間線：在現有產能衰減之前，把自主研發的替代方案推到可用狀態。業內規劃目標是在＂十五五＂期間（2026-2030年）實現7納米全國產化生產線試運行。這個目標聽起來雄心勃勃，實現起來困難重重，但至少方向是清楚的——不能把命運寄托在別人的善意上。

回到阿斯麥CEO的那句話。富凱說中國落后10到15年，這個判斷在技術層面或許有其道理。阿斯麥已經啟動了下一代Hyper NA EUV的研究，對未來10到15年的技術路線有了大致概念，等中國追上今天的EUV，人家可能已經跑到了更遠的地方。這是客觀事實，不必回避。但問題在于，芯片競爭從來不只是光刻機一條賽道，成熟制程的規模化、應用生態的豐富度、算法層面的優化彌補，都是改變競爭格局的變量。

封鎖越狠，反噬也越大。DUV限制初期反而引發了中國客戶的搶購潮，阿斯麥在中國的銷售額一度暴漲。現在禁令升級到維修服務層面，可以預見的是中國對自主設備和自主維護能力的投入會更加瘋狂。每一次加碼，都是在給中國產業鏈的自主化按下加速鍵。這個＂加速效應＂是華盛頓的政策制定者們不愿承認、卻無法忽視的事實。

阿斯麥CEO說要＂讓中國繼續落后＂，銷往中國的光刻機＂落后尖端技術10年＂。這話當下是事實描述，但放到更長的時間尺度來看，它更像是一個挑戰——一個丟給中國半導體產業的、不得不接的挑戰。這場圍繞光刻機的博弈還遠沒有到終局，誰能撐到對方先犯錯的那一天，誰就握住了主動權。