北京
來源：市場(chǎng)資訊
（來源：Ai&芯片那點(diǎn)事兒）
荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）首席執(zhí)行官富凱說，收緊光刻機(jī)對(duì)CN市場(chǎng)的出口管制，將加速自主研發(fā)替代設(shè)備的步伐。
被視為歐洲科技界領(lǐng)軍人物之一的富凱（Christophe Fouquet）星期三（5月20日）參加在比利時(shí)安特衛(wèi)普舉行的科技活動(dòng)接受路透社采訪時(shí)呼吁，針對(duì)晶片制造設(shè)備輸華的出口，制定更為一致的規(guī)則。
美國(guó)國(guó)會(huì)4月提出《硬件技術(shù)控制多邊協(xié)同法案》（MATCH法案），要求荷蘭和日本等盟友遵守美國(guó)出口管制措施，防止CN獲取先進(jìn)晶片制造設(shè)備。這項(xiàng)法案在現(xiàn)行極紫外光刻機(jī)（EUV）對(duì)華全面禁售的基礎(chǔ)上，將浸沒式深紫外光刻機(jī)（DUV）等設(shè)備也納入全面限制。荷蘭政府對(duì)上述法案予以反對(duì)。
富凱說，阿斯麥目前出售的DUV設(shè)備，本身就是基于2015年的技術(shù)，為八代之前的晶片技術(shù)；如果進(jìn)一步收緊限制，只會(huì)加速CN自主研發(fā)替代設(shè)備的步伐。
富凱比喻說：“如果我將你放到沙漠里，告訴你今后再也沒有食物來源了——你需要多久才開墾出自己的菜園？這是存亡的問題。”
阿斯麥今年1月預(yù)計(jì)，公司今年在CN市場(chǎng)的銷售額占比為20%，較去年的33%明顯減少。按海關(guān)總署的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，CN今年首季從荷蘭進(jìn)口的光刻設(shè)備同比下降24.3%。
年初，半導(dǎo)體行業(yè)的九名領(lǐng)軍人物集體撰文，呼吁在“十五五”（2026年至2030年）規(guī)劃期間，舉全國(guó)之力打造CN版的光刻機(jī)巨頭阿斯麥，突破美國(guó)的技術(shù)封鎖。
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