來源:市場(chǎng)資訊
(來源:Ai&芯片那點(diǎn)事兒)
荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)首席執(zhí)行官富凱說,收緊光刻機(jī)對(duì)CN市場(chǎng)的出口管制,將加速自主研發(fā)替代設(shè)備的步伐。
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被視為歐洲科技界領(lǐng)軍人物之一的富凱(Christophe Fouquet)星期三(5月20日)參加在比利時(shí)安特衛(wèi)普舉行的科技活動(dòng)接受路透社采訪時(shí)呼吁,針對(duì)晶片制造設(shè)備輸華的出口,制定更為一致的規(guī)則。
美國(guó)國(guó)會(huì)4月提出《硬件技術(shù)控制多邊協(xié)同法案》(MATCH法案),要求荷蘭和日本等盟友遵守美國(guó)出口管制措施,防止CN獲取先進(jìn)晶片制造設(shè)備。這項(xiàng)法案在現(xiàn)行極紫外光刻機(jī)(EUV)對(duì)華全面禁售的基礎(chǔ)上,將浸沒式深紫外光刻機(jī)(DUV)等設(shè)備也納入全面限制。荷蘭政府對(duì)上述法案予以反對(duì)。
富凱說,阿斯麥目前出售的DUV設(shè)備,本身就是基于2015年的技術(shù),為八代之前的晶片技術(shù);如果進(jìn)一步收緊限制,只會(huì)加速CN自主研發(fā)替代設(shè)備的步伐。
富凱比喻說:“如果我將你放到沙漠里,告訴你今后再也沒有食物來源了——你需要多久才開墾出自己的菜園?這是存亡的問題。”
阿斯麥今年1月預(yù)計(jì),公司今年在CN市場(chǎng)的銷售額占比為20%,較去年的33%明顯減少。按海關(guān)總署的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì),CN今年首季從荷蘭進(jìn)口的光刻設(shè)備同比下降24.3%。
年初,半導(dǎo)體行業(yè)的九名領(lǐng)軍人物集體撰文,呼吁在“十五五”(2026年至2030年)規(guī)劃期間,舉全國(guó)之力打造CN版的光刻機(jī)巨頭阿斯麥,突破美國(guó)的技術(shù)封鎖。
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