臺積電2nm泄密案宣判：主犯10年徒刑，TEL被罰1.5億！

4月27日，中國臺灣智慧財產及商業法院針對備受矚目的臺積電2nm制程機密泄密案做出宣判。臺積電離職工程師陳力銘因跳槽至半導體設備商Tokyo Electron（TEL）公司后，勾結臺積電內部員工竊取營業秘密，遭法院依違反《安全法》及《營業秘密法》重判有期徒刑10年。同時，涉案的TEL公司被判處罰金新臺幣1.5億元，并須賠償臺積電新臺幣1億元及支付罰金新臺幣5,000萬元以換取緩刑。

根據官方新聞稿顯示，陳力銘在跳槽TEL公司后，為求個人工作表現，自2023年起多次涉嫌勾結當時仍在臺積電任職的工程師吳秉駿、戈一平與陳韋杰，通過遠程聯網或借用帳號登入臺積電數據庫等方式，以手機翻拍臺積電的先進制程機密圖檔。合議庭痛批，陳力銘的行為造成臺積電營業秘密外流風險，嚴重危及中國臺灣半導體產業的國際競爭力與經濟安全。

不過，法官考慮到陳力銘在偵查與審判期間坦承犯行，并主動供出共犯陳韋杰，加上臺積電表明TEL為其供應商而非直接競爭對手，且外泄機密未流向第三方，在陳力銘充分配合調查，并獲得臺積電原諒的情況下，合并應執行有期徒刑10年。而在內部共犯部分，工程師吳秉駿與戈一平因造成臺積電2nm制程機密外流風險，但事后充分配合調查、加速厘清案情，并取得臺積電原諒，分別被判處有期徒刑3年與2年。

另一名工程師陳韋杰因借用不知情同事的帳號密碼，從臺南封裝測試廠區數據庫竊取臺積電半導體制程從“納米”邁入“埃米”時代的最先進的“14埃米”制程機密信息，且到案后僅坦承客觀事實，迄今未獲臺積電諒解，遭重判有期徒刑6年。

而在TEL公司其他共犯部分，因為本案爆發后，TEL公司高階主管盧怡尹一度為避免遭公司追究疏失，刪除陳力銘存放于云端系統的營業秘密圖檔，涉嫌湮滅證據，被判處有期徒刑10月。考察其事后主動通報并坦認犯行，法院宣告緩刑3年，條件是支付罰金新臺幣100萬元及接受6場次法治教育。

合議庭還發現，TEL公司對陳力銘的考核評語竟記載“善用既有客戶資源取得有價值的信息”、“能搜集到公司內部不易取得之信息”等語，顯然TEL公司明知員工利用原同事等舊識非法搜集臺積電內部信息，未善盡企業監督之責。最終，法院判處TEL罰金（刑事罰金）新臺幣1.5億元（約合人民幣3256萬元），但考慮到其積極配合調查、建立防止措施，并與臺積電達成和解，宣告緩刑3年，條件是須于判決確定1年內向臺積電支付新臺幣1億元（民事賠償），并向中國臺灣支付罰金新臺幣5,000萬元。本案仍可上訴。

編輯：芯智訊-浪客劍